半导体是介于导体和绝缘体之间的一种材料。对水的要求特别高，水不应含有离子杂质。因此，半导体工业通常需要使用超纯水设备。
超纯水设备主要由预处理、两段反渗透、EDI模块和后处理装置组成。生产出来的水要求电阻率要大于18兆欧才能满足半导体加工的用水需求。反渗透系统是超纯水设备预脱盐的核心部分。反渗透处理后的水可以去除大部分无机盐和微生物。原理是在压力的作用下，水分子通过。
渗滤膜变成纯水，反渗透膜截留和排出水中的杂质。反渗透是目前一种先进的节能脱盐方法.反渗透法主要用于去除水中溶解的盐、离子、小分子颗粒、有机物、细菌、病毒、放射性离子等杂质。除盐率一般在98%以上。
EDI装置结合了电渗析和离子交换的优点，克服了电渗析和离子交换的缺点。EDI超纯水处理工艺运行稳定，有效地延长了EDI的使用寿命，降低了用户的运行成本。对DC有效。
在电场作用下，电解质在离子交换膜上有选择性迁移。阴离子交换树脂用于在水中交换电解质，形成“离子通道”。对水在离子交换树脂界面极化产生的H+和OH-进行了电化学再生。
超纯水设备具有操作成本低、自动化程度高、经济效益好等优点。该工艺具有先进、成熟、出水水质稳定、系统运行稳定等特点。适用于半导体行业：半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路、液晶显示屏、pdp等离子显示。
屏幕、高质量显像管、荧光粉生产、半导体材料、晶体元件材料的生产、加工、清洗、超纯材料和超纯化学试剂、超纯化学材料、实验室和中试车间、汽车和家用电器表面抛光处理、光电子产品、其他高科技精细产品等。
